题目内容（请给出正确答案）

[主观]

为实现更小的微细加工线宽，最新的光刻技术采用浸没式光刻机以实现更高的分辨率。假定光刻机所用透镜的半径为6cm，透镜的焦长为10cm，浸没的液体为折射率1.44的水溶液，光刻机使用的光源为波长193nm的准分子激光器，k值为0.6，试求此镜头的数值孔径NA、焦深和光刻机的分辨率。

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第1题

（）是所有特种加工方法中最精密、最微细的加工方法，是当代毫微米加工（）技术的基础。

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第2题

利用半导体技术制造出压阻式传感器、利用薄膜工艺制造出快速响应的气敏、湿敏床年起，请问这属于传感器的哪个发展动向()。

A、发现新现象

B、开发新材料

C、采用微细加工技术

D、多功能集成传感器

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第3题

商品描述中可以含有“最新科学”、“最新技术”、“最先进加工工艺”等绝对化的语言或者表示。（）

正确

错误

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第4题

在开发和设计形象宣传年册业务时，食品类企业可以出现含有（)的内容。
A、最新科学
B、最新技术
C、最先进加工工艺
D、企业管理

请帮忙给出正确答案和分析，谢谢！

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第5题

在开发和设计形象宣传年册业务时，食品类企业可以出现含有（)的内容。
A、最新科学
B、最新技术
C、最先进加工工艺
D、企业管理理念

请帮忙给出正确答案和分析，谢谢！

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第6题

关于虚拟区段的描述错误的是()。

A、利用虚拟区段技术，可以实现移动闭塞的后备模式功能

B、利用虚拟区段技术，可以减少信号设备的数量，降低建设成本

C、利用虚拟区段技术，可以通过改进系统软件技术，在不改动硬件设施的情况下，提高系统的性能

D、利用虚拟区段技术，可以将物理闭塞区段划分为更小的逻辑区段，提高系统的性能

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第7题

简述几种主流的光刻技术。

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第8题

光刻技术中的常见问题有哪些？

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第9题

()不是先进的光刻技术。

A、极紫外光刻

B、X射线光刻

C、电子束光刻

D、紫外线光刻

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第10题

IC制造中对光刻技术的基本要求有哪些？

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第11题

在光刻技术中为何显影后必须进行检查？检查的内容有哪些？

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